研磨後的清洗
研磨是光學（xué）玻璃生產中決定其加工效率和表麵質量（外觀和精度）的重要工序。研（yán）磨工序中的主要汙染物為研磨粉和（hé）瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片。其中研磨粉（fěn）的型（xíng）號各異，一般是以二氧化（huà）鈰為主的堿金屬氧（yǎng）化物。根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同（tóng）型號（hào）的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起（qǐ）保護作用的，以防止（zhǐ）拋光完（wán）的鏡麵被劃（huá）傷或腐蝕。研磨（mó）後（hòu）的清洗設（shè）備大致分為兩種： 一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。
一、有機溶劑（jì）清洗（xǐ）采用的清（qīng）洗流程如下:
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉幹燥。
有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗（xǐ）瀝（lì）青及漆片。以前的溶劑清洗（xǐ）劑多采用（yòng）三氯乙烷或三氯乙烯（xī）。由於三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質）產品，目前處於（yú）強製淘汰階段；而長期使用三氯乙烯易導致職業病，而且由於三氯乙烯很不穩（wěn）定（dìng），容易水解（jiě）呈酸性（xìng），因此會腐（fǔ）蝕鏡片及設備。對此，國內的清洗劑廠家研製生產（chǎn）了非ODS溶（róng）劑型係列清洗劑，可用於清洗光學玻璃；並且該係列產品具備不同的物（wù）化（huà）指標，可有效滿足不（bú）同設備及工藝條件的要求。比（bǐ）如在少數（shù）企業的生產過程中，鏡片表麵有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分（fèn）企業的清洗設備的溶劑（jì）清洗槽冷凝管較少，自由（yóu）程（chéng）很短，要求使用揮發較慢（màn）的有機（jī）溶劑（jì）；另一部分（fèn）企業則相反，要求使用揮發（fā）較快（kuài）的有（yǒu）機溶劑等。
水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由於研（yán）磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清（qīng）洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產生的研磨粉基（jī）本上是在水基清洗單元內除去的，故而（ér）對水基清洗（xǐ）劑提出了極（jí）高的要求（qiú）。以前由於國內的光學玻璃專（zhuān）用水基清洗劑品（pǐn）種較少，很多外資企業都選用進（jìn）口的清洗劑。而（ér）目前（qián）國內已（yǐ）有公司開（kāi）發出光學（xué）玻璃清洗劑，並成功地應用在國（guó）內數家大型光學玻璃生產廠，清洗（xǐ）效果完全可以取代進口產品，在腐蝕性（防（fáng）腐性（xìng）能）等指標上更（gèng）是優於進口產品。
對於IPA慢拉幹燥，需要說明的一點是，某些種類的鏡片幹燥後容易產生水印，這種現象一方麵與IPA的純度及空氣濕度有關，另一方麵與清洗設備（bèi）有較（jiào）大的關係，尤其是雙臂幹燥的效（xiào）果明顯不如單臂幹燥的好，需（xū）要設備廠（chǎng）家及用戶（hù）注意此點。
二、半水基清洗（xǐ）采用的清洗流程如下:
半水基清洗劑（超聲波）-市水漂（piāo）洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水（shuǐ）-IPA慢拉幹燥
此種清洗工藝（yì）同溶劑清洗相比最大（dà）的區別在於（yú），其前兩個（gè）清洗單元：有機溶劑清洗隻對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機汙染物，還對研磨粉等（děng）無機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了後續（xù）清洗單元中水基清洗劑的清洗壓（yā）力。
半水基清洗劑的特點是揮發速度（dù）很慢（màn），氣味小。采（cǎi）用半水基清洗劑清洗的設備在第一個清洗單元中無（wú）需密封冷（lěng）凝和蒸餾回收裝置（zhì）。但由於半水基清洗劑粘度較大，並且對後續工（gōng）序使用的水基清洗劑有（yǒu）乳化作（zuò）用，所以第二個單元須市水漂洗，並且最好將其設為流水漂（piāo）洗。
國內應（yīng）用此（cǐ）種（zhǒng）工藝的（de）企業（yè）不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴（guì）。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同（tóng）溶劑清洗工藝基本（běn）相同。
三、兩種（zhǒng）清洗方式的比較
溶劑清洗是比較傳（chuán）統（tǒng）的方法（fǎ），其優點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環使用（yòng）；但缺點也比較明顯，由於光學玻璃的生產環境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對於工（gōng）作環境多少都會有些影響，尤其是（shì）使用不封閉的（de）半自（zì）動清洗設備時。
半水基清洗是近年來逐漸發展成熟（shú）的一種新工藝，它是（shì）在傳統溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微（wēi），廢液（yè）可排入汙（wū）水處理係統；設備上的配套裝置更少；使用周（zhōu）期比溶劑（jì）要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突（tū）出的一個優點就是（shì）對於研磨粉等（děng）無（wú）機汙染物具有良（liáng）好的清洗效果，極大地緩解了後續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長（zhǎng）了水基清洗劑的使用壽命（mìng），減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。缺點就是清洗的速度比溶（róng）劑（jì）稍慢，並且必須要進行漂洗。
